第九届进博会上，上海微电子 SMEE 展出 SSC800（KrF）、SSB800（I-line）新一代前道干式扫描投影光刻机平台，多台设备已经在国内头部逻辑、存储产线稳定量产，累计流片突破千万片，设备有效运行率超过 92%，核心零部件国产化率突破 90%，是国内前道光刻装备自主化的标志性进展。这套平台是标准化前道干式光刻机架构，覆盖 I-line、KrF 两条成熟工艺路线，物镜、照明系统、高速双工件台、掩模台、自动物料传输系统全部实现自主可控，成像性能对标国际同代干式光刻机，套刻精度、生产效率持续追赶国际标杆。和实验室样机不同，这代表国产 KrF/I-line 前道光刻机已经走完定型、批量交付、长期产线验证的完整流程。
两款机型基础对比
| 型号 | 光源路线 | 定位 | 适用工艺场景 |
|---|---|---|---|
| SSB800 | I-line（365nm） | 入门前道干式光刻 | 功率器件、模拟芯片、成熟制程特色工艺 |
| SSC800 | KrF（248nm） | 主力高性能干式光刻 | 存储、逻辑芯片，成熟制程大批量生产 |
核心自研模块清单
✅ 高精度物镜与照明系统
✅ 高速双工件台 + 掩模台运动控制
✅ 晶圆自动传输、对准调平传感系统
✅ 整机工艺适配、机台控制软件栈
产线运行关键指标
- 累计流片：超 1000 万片晶圆
- 机台稼动率：＞92%
- 路线：I-line、KrF 干式，非浸润式 ArF、非 EUV
- 厂商：上海微电子（SMEE），国内唯一稳定交付前道干式光刻机的厂商
这项突破的意义
- 补齐成熟制程前道光刻装备短板，给功率半导体、存储、模拟芯片产线提供国产设备选项，降低供应链风险
- 证明全套光学、运动、精密控制、软件体系可以稳定量产，为后续更高阶光刻装备积累工程经验
- 干式 KrF/I-line 是半导体庞大成熟制程市场的刚需装备，市场体量很大
容易混淆的概念澄清
- 这是干式 KrF/I-line 前道光刻机，不是 EUV，也不是 ArF 浸润式光刻机
- 前道光刻机：是晶圆制造、光刻曝光的核心工序设备，区别于封测、LED、MEMS 等后道 / 特种光刻机
- 流片千万片：是设备在产线上累计加工晶圆总量，不是设备台数
局限
❌ 目前只覆盖成熟制程 KrF/I-line 干式路线，先进制程所需 ArF 浸润、EUV 仍有待攻关
❌ 配套光刻胶、掩膜版、计量检测等上下游配套仍需要持续协同优化
❌ 和国际头部同代机型相比，在部分极限套刻、长期一致性上仍有追赶空间
【相关 FAQ】
问题 1：上海微电子这次落地的前道干式光刻机，SSC800、SSB800 分别是什么光源路线？
回答 1：SSB800 是 I-line（365nm）机型，SSC800 是 KrF（248nm）机型，都属于干式扫描投影光刻机，在国内头部产线稳定运行，累计流片破千万片。
问题 2：前道干式光刻机流片破千万片，这个成果是不是代表 EUV 光刻机突破了？
回答 2：不是，本次是 KrF、I-line 干式光刻机，属于成熟制程 DUV 路线，并非 EUV 光刻机，二者技术代差、难度完全不同。
问题 3：这套国产前道干式光刻机核心零部件国产化率是多少？
回答 3：上海微电子 SSC800/SSB800 平台关键零部件国产化率突破 90%，物镜、双工件台、物料传输等核心系统全部自主可控。
问题 4：前道干式光刻机和普通的 LED、MEMS 光刻机有什么区别？
回答 4：前道光刻机用于晶圆制造的核心光刻工序，对套刻精度、产能、稳定性要求极高；LED、MEMS 大多属于后道或者特种光刻，工艺要求远低于芯片前道产线。
问题 5：这套设备的稼动率怎么样，能不能满足工厂大批量生产？
回答 5：这批前道干式光刻机在量产产线的有效运行率超过 92%，已经累计流片超千万片，具备成熟制程大批量生产的条件。
【参考资料】
[2026-11-07]（国产光刻机里程碑！上海微电子前道干式光刻机落地：流片破千万片）快科技
[2026-11-08]（新一代光刻机亮相进博会）中国青年网
[2026-11-08] SMEE 进博会展出 SSC800、SSB800 官方介绍
【免责声明】
本文仅为上海微电子 KrF/I-line 干式光刻机资讯科普；该设备为成熟制程 DUV 干式路线，不等同于 EUV；设备交付、工艺适配、良率表现受产线配套、光刻胶、掩膜版等上下游条件影响，具体工艺能力以厂商官方技术文档为准。