佳能在 2026 年 11 月 10 日正式对外公布新款 KrF 扫描光刻机 FPA-6400ES6a，这款机器定位存储芯片、逻辑芯片量产，计划在 2026 年 12 月上旬正式出货，核心亮点就是把产能和套刻精度一起拉高，解决现在多层堆叠芯片制造里晶圆翘曲、对位不准、产线速度慢的痛点，依靠新载台、减振、温控以及可选的新对准光源，把 KrF 机型的指标拉到新一档，用来满足 AI 带动的成熟制程、特色工艺芯片扩产需求。
一、核心参数一览
| 项目 | 参数详情 |
|---|---|
| 机型 | FPA-6400ES6a（KrF 248nm 扫描光刻机） |
| 目标市场 | 存储芯片、逻辑芯片量产 |
| 产能 | 400 片晶圆 / 小时 |
| 套刻精度 | 4.0nm |
| 关键选配 | Hi-ALS 高对准光源 |
| 发售时间 | 2026 年 12 月上旬 |
二、核心技术升级点
- 超高加速度载台：新版载台缩短运动切换时间，直接把整机吞吐量提升到 400 片 / 小时，对比前代机型有明显提升，适合大批量晶圆连续曝光生产。
- 减振 + 光路温控方案：高速移动的时候依然稳住位置控制，搭配腔内气流、温度均匀化控制，最终实现 4.0nm 的套刻精度，佳能标注这是当前 300mm 晶圆 KrF 扫描仪里业界高水平指标。
- Hi-ALS 可选对准光源：图像对准系统新增可选光源，能根据晶圆材料、工艺自由切换对准波长，就算晶圆翘曲变形比较大，也能稳定对位，提升多层工艺良率。
- 适配高集成多层工艺：针对现在芯片层数变多、晶圆更容易翘曲变形的场景做优化，强化翘曲晶圆的测量与传输能力，兼容更多复杂成熟制程。
三、适用场景说明
这款 KrF 光刻机不是 EUV，主打成熟制程、特色工艺，主要面向存储芯片、逻辑芯片的量产线，适合需要大量曝光层、对套刻稳定性和产能都有要求的产线，在 AI 算力配套存储、功率器件、部分逻辑芯片扩产场景会有应用空间。
【相关 FAQ】
问题 1：佳能 FPA-6400ES6a 这款 KrF 光刻机的套刻精度和产能分别是多少？
回答 1：佳能 FPA-6400ES6a KrF 光刻机套刻精度达到 4.0nm，产能为每小时 400 片晶圆，是这台机型最核心的两项指标。
问题 2：佳能 FPA-6400ES6a 的 Hi-ALS 光源有什么作用？
回答 2：Hi-ALS 是佳能 FPA-6400ES6a KrF 光刻机可选配的高对准光源，支持切换对准波长，改善翘曲晶圆的对位效果，提升多层光刻工艺稳定性。
问题 3：佳能 FPA-6400ES6a 属于 EUV 光刻机吗，主要用来做什么芯片？
回答 3：佳能 FPA-6400ES6a 是 KrF 248nm 光刻机，不是 EUV 光刻机，主要面向存储芯片、逻辑芯片这类成熟制程芯片量产。
问题 4：佳能 FPA-6400ES6a 什么时候开始发售？
回答 4：佳能 FPA-6400ES6a KrF 光刻机计划 2026 年 12 月上旬正式发售。
【参考资料】
[2026-11-11]（佳能发售 KrF 半导体光刻机 FPA-6400ES6a）电子工程世界
[2026-11-10]（佳能发售 KrF 半导体光刻机 FPA-6400ES6a）电子工程专辑
[2026-11-10]（Canon launches FPA-6400ES6a KrF semiconductor lithography system）Canon Global
[2026-11-10]（KrF 半導体露光装置 FPA-6400ES6a を発売）佳能日本官网
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